作为每两年举办一次的全国性学术盛会，第十六届全国分子束外延学术会议将于 2025 年 10 月 14-17 日在常州启幕。本届会议由中国有色金属学会半导体材料学术委员会和中国电子学会电子材料分会等权威机构主办，聚焦 MBE 技术前沿与产业应用，吸引全国科研院所、高校及企业的顶尖专家齐聚一堂。
表面动态原位显微设备破解行业痛点
会上，长三角先进材料研究院，苏州元相微科技有限责任公司董事长唐文新博士将带来 “分子束外延原位电子显微镜及其应用” 专题报告，重点报告超高真空环境下的原位表面电子显微镜在分子束薄膜和二维材料领域的应用。报告也将阐述元相微科技公司的国产化超高真空表面电子显微镜和能谱在薄膜领域研究的重要性。
MBE-USM 一体化系统。
针对 MBE 技术在超高真空环境下原位监测的行业难题，该系统实现三大核心突破：
（1）多技术融合创新：可实现MBE薄膜生长技术与原位电子显微镜的深度集成，搭配衍射、PEEM及XPS联用功能，构建全链条表征平台；
（2）超高时空分辨率：采用低能相干电子束照明，可实现优于2 纳米的空间分辨率和毫秒级时间分辨率，实时捕捉台阶推移、岛状成核等纳米尺度动态过程；
（3）多领域实证应用：系统成功应用于锂原子分子束外延嵌入石墨烯层析分析，单原子Cu外延生长过程以及GaAs半导体表面反应，未来更将解锁二维拓扑材料生长机制探索等前沿方向。
诚邀同仁共话技术未来
唐文新博士将在报告中聚焦超高真空表面显微技术结合表面材料、二维材料及 III-V 族半导体的原位生长案例展开深度分享。我们诚挚邀请半导体材料、纳米技术、电子器件等领域的专家学者与会交流与讨论：
报告时间：2025 年 10 月 16日上午10:30 – 10:45
会议地点：江苏省常州西太湖科技产业园揽月路689号常州星河万丽酒店
S8：原位表征与智能外延 澜月1厅
（详见会议官网 https://www.mbe2025.com/）
期待与您现场交流设备应用场景、技术合作及联合研究等议题，共推我国分子束外延原位表征技术产业化发展！
联络咨询：唐文新 188-1723-6602
苏州元相微科技有限责任公司
2025 年 10 月 8 日