应用场景
高空间分辨X射线光电子能谱
利用高空间分辨 XPS 成像技术 (≤ 50 nm)， USM-P 可实现表面元素/化学态的空间分布分析。以部分氧化的 Ge(110) 表面为例，通过 Ge3d 峰扫描生成化学态分布图（左）及能谱（右）结合能谱分析多维解析氧化过程，直观呈现材料表面化学动态。
X射线光电子能谱（XPS），也称为化学分析电子能谱（ESCA），是一种表面敏感的分析技术，用于确定材料的元素组成和化学态。它基于光电效应，利用X射线照射材料，使原子内层轨道的电子被激发出来。通过测量这些光电子的动能（EK）
EB=hν-ϕ-EK
其中，hν 是入射X射线光子的能量，ϕ
是能谱仪的功函数。结合能是元素及其化学环境的特征，可以用于识别材料表面的元素及其化学态。由于XPS的无损、高表面灵敏度及高元素和化学态识别特性，使XPS广泛应用于材料科学、纳米技术、腐蚀科学、生物学和医学等领域。
USM-P通过空间成像技术，获得高空间分辨（≤ 50 nm） XPS图象，对元素或化学态进行高分辨率表面面分布分析，使分析结果更直观。图1为部分氧化镓（110）晶面示例，通过Ge3d峰（图1a）作扫描得出数据。经过数据分析后，得出化学态分布图（图1b），及相关光电子能谱（图1c）。对氧化过程及分布理解更为直观。
图1：部分氧化镓（110）晶面化学态图象。a）XPS图象（结合能29.3eV）；b）化学态分布图；c）各化学态光电子能谱。
视频展示