
本设备是多功能高性能表面分析仪器,可原位监测固体材料表面生长、相变、扩散、掺杂等动态演化过程,捕捉表面微观动力学行为。
依托表面电子相位成像分析技术,设备可实现亚单层灵敏度检测,适用于超薄膜制备、二维材料、金属、半导体、磁性材料与纳米材料等前沿研究领域。
| 规格 | |
|---|---|
| 阴极 |
肖特基热场发射源 自旋极化电子源(选配) |
| 分辨率 | ≤ 5 nm;≤2nm(像差校正) |
| 视场 | 1 μm – 200 μm |
| 样品温度 |
室温 – 2000 K 10 K – 室温(选配) |
| 真空度 | 主腔:≤ 5×10-10 mbar |
| 测量模式 |
|---|
| BF-LEEM |
| DF-LEEM |
| MEM |
| LEED / μLEED |
| I-V LEEM |
| SPLEEM(选配) |
| 信息来源 |
|---|
| 反射率 / 相位衬度 |
| 晶体畴 / 衍射衬度 |
| 表面电势 |
| 倒易空间结构 |
| 电子结构 / 薄膜厚度 |
| 磁性 |
| 应用场景:原位CVD生长观察 |
| 应用场景:超薄膜层数标定 |